[논문](Invited) Gate Insulator for High Mobility Oxide TFT

Park, Sang-Hee Ko; Kim, Hee-Ok; Cho, Sung-Heang; Ryu, Min Ki; Yang, Jong-Heon; Ko, Jong-Beom; Hwang, Chi-Sun

doi:10.1149/06410.0123ecst

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[해외논문] (Invited) Gate Insulator for High Mobility Oxide TFT

ECS transactions, v.64 no.10, 2014년, pp.123 - 128

Park, Sang-Hee Ko (aKAIST) , Kim, Hee-Ok (bETRI) , Cho, Sung-Heang (bETRI) , Ryu, Min Ki (bETRI) , Yang, Jong-Heon (bETRI) , Ko, Jong-Beom (aKAIST) , Hwang, Chi-Sun (bETRI)

Abstract ▼ AI-Helper

We adopted SiO2 film by means of plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) as the first gate insulator of top gate IGZO TFT. TFT post-annealed at 300oC shows mobility, Vth, and S.S of 39.9 cm2/V.s, -1V, and 0.32 V/dec., respectively. We investigated the effect of H in the gate insulator during...

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DOI : 10.1149/06410.0123ecst
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