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Instability in an amorphous In–Ga–Zn–O field effect transistor upon water exposure

Journal of physics. D, applied physics, v.49 no.5, 2016년, pp.055102 -   

Sharma, Bhupendra K (Centre for Nano Science and Engineering, Indian Institute of Science, Bangalore-560012, India) ,  Ahn, Jong-Hyun (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University, Seoul 120-749, Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The instability of an amorphous indium–gallium–zinc oxide (IGZO) field effect transistor is investigated upon water treatment. Electrical characteristics are measured before, immediately after and a few days after water treatment in ambient as well as in vacuum conditions. It is observed...

참고문헌 (18)

  1. [1] Nomura K, Ohta H, Takagi A, Kamiya T, Hirano M and Hosono H 2004 Nature 432 488–92 10.1038/nature03090 Nomura K, Ohta H, Takagi A, Kamiya T, Hirano M and Hosono H Nature 432 2004 488 492 

  2. [2] Luo H, Wellenius P, Lunardi L and Muth J F 2012 IEEE Electron Dev. Lett. 33 673–5 10.1109/LED.2012.2186784 Luo H, Wellenius P, Lunardi L and Muth J F IEEE Electron Dev. Lett. 0741-3106 33 2012 673 675 

  3. [3] Jin S H et al 2015 ACS Appl. Mater. Interfaces 7 8268–74 10.1021/acsami.5b00086 Jin S H et al ACS Appl. Mater. Interfaces 7 2015 8268 8274 

  4. [4] Salvatore G A, Munzenrieder N, Kinkeldei T, Petti L, Zysset T, Strebel I, Buthe L and Troster G 2013 Nat. Commun. 5 2982 Salvatore G A, Munzenrieder N, Kinkeldei T, Petti L, Zysset T, Strebel I, Buthe L and Troster G Nat. Commun. 5 2013 2982 

  5. [5] Shih T-H et al 2012 SID Digest 43 92–4 10.1002/j.2168-0159.2012.tb05718.x Shih T-H et al SID Digest 43 2012 92 94 

  6. [6] Nag M et al 2014 J. SID 21 369–75 Nag M et al J. SID 21 2014 369 375 

  7. [7] Lee S et al 2009 Appl. Phys. Lett. 95 132101 10.1063/1.3237169 Lee S et al Appl. Phys. Lett. 95 132101 2009 

  8. [8] Kang D, Lim H, Kim C, Song I, Park J, Park Y and Chung J G 2007 Appl. Phys. Lett. 90 192101 10.1063/1.2723543 Kang D, Lim H, Kim C, Song I, Park J, Park Y and Chung J G Appl. Phys. Lett. 90 192101 2007 

  9. [9] Kim Y-H, Heo J-S, Kim T-H, Park S, Yoon M-H, Kim J, Oh M S, Yi G-R, Noh Y-Y and Park S K 2012 Nature 489 128–32 10.1038/nature11434 Kim Y-H, Heo J-S, Kim T-H, Park S, Yoon M-H, Kim J, Oh M S, Yi G-R, Noh Y-Y and Park S K Nature 489 2012 128 132 

  10. [10] Sharma B K, Jang B, Lee J E, Bae S-H, Kim T W, Lee H-J, Kim J-H and Ahn J-H 2013 Adv. Funct. Mater. 23 2024–32 10.1002/adfm.201202519 Sharma B K, Jang B, Lee J E, Bae S-H, Kim T W, Lee H-J, Kim J-H and Ahn J-H Adv. Funct. Mater. 23 2013 2024 2032 

  11. [11] Conley J F 2010 IEEE Trans. Dev. Mater. Reliab. 10 460 10.1109/TDMR.2010.2069561 Conley J F IEEE Trans. Dev. Mater. Reliab. 10 2010 460 

  12. [12] Fuh C-S, Sze S M, Liu P-T, Teng L-F and Chou Y-T 2011 Thin Solid Films 520 1489–94 10.1016/j.tsf.2011.08.088 Fuh C-S, Sze S M, Liu P-T, Teng L-F and Chou Y-T Thin Solid Films 0040-6090 520 2011 1489 1494 

  13. [13] Park J-S, Jeong J K, Chung H-J, Mo Y-G and Kim H D 2008 Appl. Phys Lett. 92 072104 10.1063/1.2838380 Park J-S, Jeong J K, Chung H-J, Mo Y-G and Kim H D Appl. Phys Lett. 92 072104 2008 

  14. [14] Nomura K, Kamiya T and Hosono H 2013 ECS J. Solid State Sci. Technol. 2 5–8 10.1149/2.011301jss Nomura K, Kamiya T and Hosono H ECS J. Solid State Sci. Technol. 2162-8769 2 1 2013 P5 8 

  15. [15] Nomura K, Kamiya T, Ohta H, Hirano M and Hosono H 2008 Appl. Phys Lett. 93 192107 10.1063/1.3020714 Nomura K, Kamiya T, Ohta H, Hirano M and Hosono H Appl. Phys Lett. 93 192107 2008 

  16. [16] Bae C, Kim D, Moon S, Choi T, Kim Y, Kim B S, Lee J-S, Shin H and Moon J 2010 ACS Appl. Mater. Interfaces 2 626 10.1021/am900855s Bae C, Kim D, Moon S, Choi T, Kim Y, Kim B S, Lee J-S, Shin H and Moon J ACS Appl. Mater. Interfaces 2 2010 626 

  17. [17] Visweswaran B, Mandlik P, Mohan S H, Silvernail J A, Ma R, Sturm J C and Wagner S 2015 J. Vac. Sci. Technol. A 33 031513 10.1116/1.4918327 Visweswaran B, Mandlik P, Mohan S H, Silvernail J A, Ma R, Sturm J C and Wagner S J. Vac. Sci. Technol. 0734-2101 33 A 031513 2015 

  18. [18] Ueoka Y, Ishikawa Y, Maejima N, Matsui F, Matsui H, Yamazaki H, Urakawa S, Horita M, Daimon H and Uraoka Y 2013 J. Appl. Phys. 114 163713 10.1063/1.4828869 Ueoka Y, Ishikawa Y, Maejima N, Matsui F, Matsui H, Yamazaki H, Urakawa S, Horita M, Daimon H and Uraoka Y J. Appl. Phys. 114 163713 2013 

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