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Influence of Intercell Trapped Charge on Vertical NAND Flash Memory

IEEE electron device letters : a publication of the IEEE Electron Devices Society, v.38 no.2, 2017년, pp.164 - 167  

Choi, Woo Young (Department of Electronic Engineering, Sogang University, Seoul, South Korea) ,  Kwon, Hyug Su (Department of Electronic Engineering, Sogang University, Seoul, South Korea) ,  Kim, Yong Jun (Flash Device Technology Team, SK Hynix, Icheon-si, South Korea) ,  Lee, Byungin (Flash Device Technology Team, SK Hynix, Icheon-si, South Korea) ,  Yoo, Hyunseung (Flash Device Technology Team, SK Hynix, Icheon-si, South Korea) ,  Choi, Sangmoo (Department of Electronic Engineering, Sogang University, Seoul, South Korea) ,  Cho, Gyu-Seog (Flash Device Technology Team, SK Hynix, Icheon-si, South Korea) ,  Park, Sung-Kye

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The influence of intercell trapped charge (ITC)-the charge trapped at the inter-cell nitride regions by fringe electric fields during programand erase operations-on vertical NAND (VNAND) flash memory is investigated. In addition to conventional degradation mechanisms such as tunnel oxide damage, ITC...

참고문헌 (18)

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