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NTIS 바로가기Journal of vacuum science and technology. materials, processing, measurement, & phenomena : JVST B. B, Nanotechnology & microelectronics, v.28 no.6, 2010년, pp.C6S19 - C6S22
Telecky, Alan (Oregon State University Department of Chemistry, , Corvallis, Oregon 97331-4003) , Xie, Peng (Rochester Institute of Technology , Rochester, New York 14623) , Stowers, Jason (Inpria Corp. , Corvallis, Oregon 97330) , Grenville, Andrew (Inpria Corp. , Corvallis, Oregon 97330) , Smith, Bruce (Rochester Institute of Technology , Rochester, New York 14623) , Keszler, Douglas A. (Oregon State University Department of Chemistry, , Corvallis, Oregon 97331-4003)
The authors present a directly photopatternable inorganic hardmask for 193 nm lithography based on the solution-deposited dielectric metal oxide sulfate (MSOx) system. To demonstrate pattern fidelity, 18 nm half-pitch features were written at a dose near 240 μC/cm2 (30 keV) with line width roughn...
Microelectron. Eng. 85 764 2008 10.1016/j.mee.2007.12.001
Microelectron. Eng. 85 959 2008 10.1016/j.mee.2008.01.080
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Future Fab Intl. 20 76 2007
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