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Growth of TiO2 Thin Films by Atomic Layer Deposition (ALD)

Advanced materials research : AMR, v.1133, 2016년, pp.352 - 356  

Hussin, Rosniza (Universiti Tun Hussein Onn Malaysia) ,  Choy, Kwang Leong (Kathleen Lonsdale Building) ,  Hou, Xiang Hui (University of Nottingham)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Ceramic oxide thin films are an important material, with applications in many areas of science and technology. Titanium oxide (TiO2) is also a well-known and important material for applications such as gas sensors [1], photocatalysis materials [3], and electrochemicals [1], due to its self-cleaning ...

참고문헌 (22)

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  3. M. Ritala, M. Leskela, Atomic layer epitaxy- a valuable tool for nanotechnology, Nanotechnology. 10 (1999) 19-24. 10.1088/0957-4484/10/1/005 

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