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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 1999년도 춘계학술대회 논문집, 1999 May 01, 1999년, pp.575 - 577
김성오 (인하대학교 전기공학과) , 이진 (목포대학교 전기공학과) , 이경섭 (동신대학교 전기공학과) , 이덕출 (인하대학교 전기공학과)
In this study, the PPPI(Plasma Polymerized Phenyl Isothiocyanate) resist thin film was manufactured in accordance with the plasma polymerization method and after exposing it to an electron beam, a pattern was formed by plasma etching. With the FT-IR(Fourier transform-infrared spectrometry) analysi...
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