[논문]Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue

박형호; 권광호; 곽병화; 이희태; 조경익

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[국내논문] Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue
CHF3/C2F6 반응성이온 건식식각으로 오염된 실리콘 표면의 특성과 여러 가지 후처리효과 연구 원문보기

한국재료학회 1993년도 춘계학술발표회, 1993 May 01, 1993년, pp.45 - 45

박형호 (한국전자통신연구소) , 권광호 (한국전자통신연구소) , 곽병화 (한국전자통신연구소) , 이희태 (한국전자통신연구소) , 조경익 (한국전자통신연구소)

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