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Si 함유용액에 의한 한외여과막의 투과유속 감소 특성
Flux Decline during Ultrafiltration of the Silicon Colloidal Solution 원문보기

한국막학회 1998년도 추계 총회 및 학술발표회, 1998 Oct. 01, 1998년, pp.163 - 165  

여호택 (경일대학교 화학공학과) ,  이석기 (동안엔지니어링(주) 부설연구소) ,  전재홍 (동안엔지니어링(주) 부설연구소) ,  남석태 (경일대학교 화학공학과) ,  최호상 (경일대학교 화학공학과)

초록
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한외여과 분리막을 이용한 공정은 화학공업을 비롯하여 의약품, 식품, 폐수 처리 및 반도체산업 등의 여러 분야에서 이용되고 있다. 그러나 한외여과 분리 공정에 잇어서 해결되어야 할 중요한 문제점은 투과유속의 감소현상이다. 용액의 투과유속이 순수의 투과유속보다 낮아지는 투과유속의 감소현상은 크게 농도분극과 막오염 현상에 기인한다. 농도분극에 의한 투과유속의 감소는 보통 1분 이내의 매우 짧은 시간 안에 일어나지만 시간이 지속됨에 따라 투과유속이 감소하는 현상은 막오염에 기인한다.

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