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NTIS 바로가기전력전자학회 2003년도 춘계전력전자학술대회 논문집(1), 2003 July 01, 2003년, pp.260 - 263
이정호 ((주)뉴파워프라즈마) , 최대규 ((주)뉴파워프라즈마) , 최상돈 ((주)뉴파워프라즈마) , 최해영 ((주)뉴파워프라즈마) , 원충연 (성균관대학교) , 김수석 (서울산업대학교)
When ICP(Inductive Coupled Plasma type etching and wafer manufacturing is being processed in semiconductor process, a noxious gas in PFC and CFC system is generated. Gas cleaning dry scrubber is to remove this noxious gas. This paper describes a power source device, 2MHz switching frequency class 2k...
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