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광 리소그래피의 최후\\ulcorner
The End of Optical Lithography\\ulcorner 원문보기

한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회, 2003 Feb. 01, 2003년, pp.276 - 277  

오혜근 (한양대학교 물리학과)

초록
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전체 반도체 소자 제조 공정의 40 %를 차지하고 있는 리소그래피 기술은 기억 소자뿐만 아니라 마이크로 프로세서, ASIC 등의 실리콘 소자와 군사 및 통신에 많이 사용되고 있는 화합물 반도체를 만드는 데도 쓰이고 있고, 요즈음은 DRAM 의 리소그래피 기술들을 LCD 등의 평판 표시 장치, 디스크 헤드, 프린터 헤드 및 MEMS(Micro-Electro-Mechanical System), 나노 바이오 칩 등의 제작에 응용하여 쓰고 있다. 리소그래피 기술은 생산 원가 면에서 제일 큰 비중을 차지하고 있을 뿐만 아니라 집적소자의 초고집적화 및 초미세화를 선도하는 기술이다. (중략)

AI 본문요약
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문제 정의

  • 더불어 정말로 광학적 리소그래피의 종말이 올 것인지? 온다면언게가 될 것인지? 아니면 광학적 리소그래피 기술을 연장해서 인류가 원하는 소자들을 충분히 양산할수 있을 것인지에 대해 살펴보고자 한다. 그 과정으로 수은등의 g-선(436 nm)과 i-선(365 nm), Kr]'(248 nm), ArF(193 nm), VUVC157 nm) 및 EUV(13.5 nm) 등으로 짧아지고 있는 광원들에 대해그 가능성과 문제점 등을 알아볼 것이다.
  • 될 것인지? 아니면 광학적 리소그래피 기술을 연장해서 인류가 원하는 소자들을 충분히 양산할수 있을 것인지에 대해 살펴보고자 한다. 그 과정으로 수은등의 g-선(436 nm)과 i-선(365 nm), Kr]'(248 nm), ArF(193 nm), VUVC157 nm) 및 EUV(13.
  • 우리는 이러한 초해상도 기술들의 보다 근본적인 광학적 근거를 찾고 보다 더 해상도를 향상시킬 수있는 방법들을 같이 생각해 볼 것이다. 더불어 정말로 광학적 리소그래피의 종말이 올 것인지? 온다면언게가 될 것인지? 아니면 광학적 리소그래피 기술을 연장해서 인류가 원하는 소자들을 충분히 양산할수 있을 것인지에 대해 살펴보고자 한다.
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