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나노급 도금공정을 위한 미세패턴 제어기술의 개발
Development of control technique of nano-sized pattern for electroplating 원문보기

대한전기학회 2004년도 하계학술대회 논문집 C, 2004 July 14, 2004년, pp.1576 - 1578  

이재홍 (순천향대학교 공과대학 정보기술공학부) ,  이병욱 (순천향대학교 공과대학 정보기술공학부) ,  이경호 (순천향대학교 공과대학 신소재화학공학부) ,  김창교 (순천향대학교 공과대학 정보기술공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The alumina membrane with nano sized pore was prepared from aluminum by anodic oxidation to apply for storage equipment, gas sensor and stamper. The pore size and cell size of the pores are controlled by anodic oxidation voltage. The alumina thickness was controlled by etching process using 0.2M

AI 본문요약
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문제 정의

  • 따라서 본 연구에서는 양극산화로 제작된 나노 크기의 기공이 각종 응용분야에 적용될 수 있도록 하기 위하여정전압법으로 나노기공의 크기 및 기공간의 거리를 제어하였으며, 미세기공의 높이를 제어할 수 있고 기공의 구조를 좋게 하기 위하여 pore widening 공정을 실시하였다. 또한, 후 공정을 위하여 기공 상단의 표면 거칠기를 개선하기 위한 연구를 하였다.
  • 또한, 후 공정을 위하여 기공 상단의 표면 거칠기를 개선하기 위한 연구를 하였다. 고리고 전해 도금법으로 미세기공에 Ni을 증착하기 위하여 입자의 크기를 제어할 수 있는 방법을 제시하였으며, 이렇게 제작된 미세기공 슨 FE-SEM(S-4300, iUTACHI) 을 여용하여 표면에 분포된 가공의 크기와 형태, 막의 두꼐 및 구조를 관찰하였다.
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