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직접가열방식을 이용한 반도체 제조용 히팅장치
A heating apparatus for semiconductor manufacturing using direct heating method 원문보기

대한전기학회 2008년도 제39회 하계학술대회, 2008 July 16, 2008년, pp.2218 - 2219  

정순원 (한국전자통신연구원) ,  권오준 ((주)에티스) ,  구경완 (호서대학교)

초록
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본 연구는 반도체 기판 히팅 장치의 새로운 구조에 관한 것으로 기판의 바닥면에 밀착된 가열 플레이트층의 직접가열 구조에 따른 빠른 열 응답성 및 열손실 최소화를 이룰 수 있다. 또한 가열 플레이트층에 내장된 히팅 수단인 시즈히터의 접촉면적을 늘려 가열 유효면적 증가와 같은 효과를 갖는다. 이를 위해 감광막이 코팅된 기판과, 상기 기판의 바닥면에 밀착되는 가열 플레이트층, 절연 및 열손실을 최소화하기 위해 상기 가열 플레이트층의 바닥면에 밀착되는 운모층, 상기 운모층의 하부에 밀착되어 바닥 플레이트층으로 이루어지되, 상기 가열 플레이트 층은 바닥면 전체에 걸쳐 연속되는 홈부를 형성하고, 상기 홈부로는 기판을 가열하기 위한 시즈히터가 삽입되어 구성된다. 새로운 기판 히팅 구조를 사용하여 시간 경과에 따른 가열 플레이트의 온도 변화를 확인 한 결과, 간접가열방식인 기존 방식에 비해 약 40 %의 전력 절감효과가 있는 것으로 확인 되었다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 따라서 본 논문에서는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 새로운 반도체 제조용 히팅 장치를 개발하였으며, 그 결과에 대하여 기술한다.
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