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제안 방법
- 레이저 유기 충격파의 거동과 특성, 입자 제거 메카니즘을 laser beam deflection method(LBD)를 이용하여 규명 하였다. 1 J 이상의 고에너지 레이저 충격파를 이용하여 Si, SiO3, Si3N4 wafer에 silica particle을 1, 0.5, 0.3um size로 오염 시켜 보관습도, 보관기간 등의 보관 환경에 따른 세정효율을 살펴보았다. Focal point로부터 시편까지의 거리가 짧고 particle의 size가 클수록 세정 효율은 높게 나타났고 보관습도를 0, 50, 100% 로하여 aging 하였을 때 보관습도와 보관기간이 증가함에 따라 세정효율이 급격하게 감소하는 것을 볼 수 있었다.
이론/모형
- 본 연구에서 사용된 레이저 유기 충격파 세정기술은 Nd:YAG laser를 공기 중에 집속 시켜 기체 브레이크다운을 통해 충격파를 발생시키고 이를 이용하여 substrate 위의particle을 제거 하는 기술이다. 레이저 유기 충격파의 거동과 특성, 입자 제거 메카니즘을 laser beam deflection method(LBD)를 이용하여 규명 하였다. 1 J 이상의 고에너지 레이저 충격파를 이용하여 Si, SiO3, Si3N4 wafer에 silica particle을 1, 0.
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