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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6, 2005 July 07, 2005년, pp.647 - 648
최권우 (조선대학교) , 김남훈 (조선대학교) , 서용진 (대불대학교) , 이우선 (조선대학교)
The development of CMP slurry chemistry for Ni that provides good CMP performance is the key for nickel based MEMS device fabrication. In this study, CMP of nickel was performed using different slurry versus oxidizer ratios arid different oxidizers also alumina particles as an abrasive....
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