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[국내논문] 산화제 첨가에 따른 니켈 화학적 기계적 연마 특성 거동 연구
Study on Ni CMP Characteristics Behavior by Addition of Oxidizers 원문보기

한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6, 2005 July 07, 2005년, pp.647 - 648  

최권우 (조선대학교) ,  김남훈 (조선대학교) ,  서용진 (대불대학교) ,  이우선 (조선대학교)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

The development of CMP slurry chemistry for Ni that provides good CMP performance is the key for nickel based MEMS device fabrication. In this study, CMP of nickel was performed using different slurry versus oxidizer ratios arid different oxidizers also alumina particles as an abrasive....

AI 본문요약
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문제 정의

  • 일반적으로 마이크로 구조물로 사용되는 재료는 Cu, Ni, Al, Au 등이며, 그 중 Nie 刀계적 성질이 우수하고, Ni 합금은 상온 부근에서의 열팽창계수가 0에 가까우므로 전자재료와 특수재료 및 마이크로 금속 구조물의 재료로 많이 연구되고 있다.[1, 2] 본 연구에서는 금속막용 숄러리에 다양한 산화제를 청가하여 CMP 공정을 실시한 후 각산화제에 따른 Ni의 연마율과 표면형상을 조사하고 MEMS 소자의 제작 시 구조재로 사용되어 지고 있는 Ni을 수십 nm로 제어할 수 있는 기술을 도모하고자 한다.
  • 본 논문에서는 슬러리와 산화제 조건을 달리하여 Ni-CMP 특성과 전기화학적 분극특성을 비교 분석하였으며, CMP 공정 후 Ni의 연마율과 표면형상을 연구하였다. CMP 공정시 연마율 특성에서눈 각 산화제에 의해 상당한 양의 연마율의 차이를 보였다.
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