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연합인증

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[한국특허] 코발트 CMP를 위한 대체 산화제 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C09G-001/02
  • C09K-003/14
  • H01L-021/306
출원번호 10-2019-7004126 (2019-02-12)
공개번호 10-2019-0018751 (2019-02-25)
우선권정보 미국(US) 62/362,222 (2016-07-14)
국제출원번호 PCT/US2017/041988 (2017-07-13)
국제공개번호 WO 2018/013847 (2018-01-18)
번역문제출일자 2019-02-12
DOI http://doi.org/10.8080/1020197004126
발명자 / 주소
  • 크래프트 스티븐 / 미국 일리노이주 오로라 ***** 노쓰 코몬스 드라이브 *** 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션
  • 카터 필립 더블유 / 미국 일리노이주 오로라 ***** 노쓰 코몬스 드라이브 *** 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션
  • 울프 앤드류 알 / 미국 일리노이주 오로라 ***** 노쓰 코몬스 드라이브 *** 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션
출원인 / 주소
  • 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션 / 미국 ***** 일리노이주 오로라 노쓰 코몬스 드라이브 ***
대리인 / 주소
  • 제일특허법인(유)
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

본 발명은 (a) 연마제, (b) 코발트 촉진제 및 (c) 금속을 산화시키는 산화제를 포함하며 약 4 내지 약 10의 pH를 갖는 화학-기계적 연마용 조성물을 제공한다.본 발명은 또한 본 발명의 화학-기계적 연마용 조성물로 기판을 화학-기계적으로 연마하는 방법을 제공한다.전형적으로, 상기 기판은 코발트를 함유한다.

대표청구항

(a) 연마제;(b) 코발트 촉진제; (c) 니트로 화합물, 니트로소 화합물, N-옥사이드 화합물, 니트라이트 화합물, 니트레이트 화합물, 하이드록실아민 화합물, 옥심 화합물 및 이들의 조합물로부터 선택되는, 금속을 산화시키는 산화제를 포함하는 화학-기계적 연마용 조성물로서, 이때 상기 연마용 조성물이 약 4 내지 약 10의 pH를 갖는, 화학-기계적 연마용 조성물.

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 아미노실란으로 처리된 연마제 입자를 이용한 연마 조성물 및 방법 | 그럼빈, 스티븐, 리, 쇼우티안, 와드, 윌리엄, 싱, 판카즈, 디사드, 제프리
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  2. [한국] 조성물을 이용한 CMP-후 제거 방법 및 그의 이용 방법 | 리우 준, 반즈 제프리 에이, 쿠퍼 에마누엘 아이, 선 라이셩, 토마스 엘리자베쓰, 창 제이슨
    상세보기
  3. [일본] SOLUTION AND METHOD FOR POLISHING COOPER-BASED METAL | YOSHIDA SETSUO
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  4. [국제] COBALT POLISHING ACCELERATORS | KRAFT STEVEN, WOLFF ANDREW, CARTER PHILLIP W, HAYES KRISTIN, PETRO BENJAMIN,
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