[논문]보론도핑 CVD 다이아몬드 박막의 특성연구

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김태규 (부산대학교 나노시스템공정학과) , 정창구 (부산대학교 나노시스템공정학과) , 김현수 (부산대학교 나노시스템공정학과) , 오정석 (창원대학교 메카트로닉스공학부) , 송정일 (창원대학교 기계공학과)

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4Kw, 진공압력 40Torr, 증착시간 2시간의 동일조건으로 수소와 메탄의 비율을 2%에 보론주입량을 1, 4, 6sccm의 변화에 따른 다이아몬드 박막의 여러 특성을 분석을 수행하였다. FE-SEM, Micro Raman, XRD로 다이아몬드 박막의 Mophology 및 Quality를 분석하였고, Cyclic Voltammetry로다이아몬드의 반도체 특성을 조사하였다.
또한 미소량을 주입하기위해 PMFC 제어와 메트링밸브를 사용하여 일정유량이 주입되게 하였다. 다이아몬드 박막 합성장치는 최대출력 2.5Kw 마이크로웨이브 CVD 합성장치에서 수행하였다. 실험조건으로 방전전력 1.
본 연구에서는 Tnmethyl Borate(H₃BO₃) 용액을 캐니스터에 주입하여 가열장치로 기화된 보론가스를 수소 케리어 가스로 챔버내에 주입하였다. 또한 미소량을 주입하기위해 PMFC 제어와 메트링밸브를 사용하여 일정유량이 주입되게 하였다.
5Kw 마이크로웨이브 CVD 합성장치에서 수행하였다. 실험조건으로 방전전력 1.4Kw, 진공압력 40Torr, 증착시간 2시간의 동일조건으로 수소와 메탄의 비율을 2%에 보론주입량을 1, 4, 6sccm의 변화에 따른 다이아몬드 박막의 여러 특성을 분석을 수행하였다. FE-SEM, Micro Raman, XRD로 다이아몬드 박막의 Mophology 및 Quality를 분석하였고, Cyclic Voltammetry로다이아몬드의 반도체 특성을 조사하였다.

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