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연속 판재 적용을 위한 고속 동도금의 공정 조건
The process condition of High-speed copper plating for application of continuous plate 원문보기

한국표면공학회 2007년도 춘계학술발표회 초록집, 2007 Apr. 05, 2007년, pp.167 - 168  

박상언 ((주)코텍, 기술연구소) ,  허세진 ((주)코텍, 기술연구소) ,  김종현 ((주)코텍, 기술연구소) ,  강용석 ((주)코텍, 기술연구소) ,  최주원 ((주)코텍, 기술연구소)

초록
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고속 동도금 공정을 확립하기 위하여 선행실험으로 알카리계 동도금 용액을 이용하여 고속 동도금의 가능성을 실험하였다. 전류밀도와 극간거리, 유속의 조절을 통하여 최대 $17.6{\mu}m/min$. 속도의 도금속도를 확보하였으며, Hv 120 내외의 경도를 확보하였다. 고속 동도금을 실현하기 위해서는 높은 전류밀도를 필요로 하고, 낮은 용액 저항을 위해 극간거리는 짧게 유지하되, 빠른 유속을 필요로 하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 현장에서 적용 가능한 고속 동도금 공정을 개발하고자 한다. 이러한 공정 개발의 일환으로 시안계열의 알카리 도금욕에서의 고속동도금을 위한 가능성을 조건에 따라 전류효율을 이용하여 평가하였으며, 차 후, 고속동도금을 위한 장치 및 공정조건에 대한 데이터로 활용하고자 하였다.
  • 개발하고자 한다. 이러한 공정 개발의 일환으로 시안계열의 알카리 도금욕에서의 고속동도금을 위한 가능성을 조건에 따라 전류효율을 이용하여 평가하였으며, 차 후, 고속동도금을 위한 장치 및 공정조건에 대한 데이터로 활용하고자 하였다.
  • 현장에서 적용 가능한 고속 동도금 공정을 개발하고자알카리 도금욕에서의 고속동도금을 위한 가능성을 평가하였다. 고속 동도금을 실현하기 위해서는 도금액의 전류밀도의 증가와 더물어 용액의 농도는 짙어져야하며, 이와 더물어 적절한 온도의 상승과 유속의 증가가 필요함을 알 수 있었다.
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