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초음파 세정 및 건조기술 원문보기

한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집, 2004 May 01, 2004년, pp.118 - 122  

이강원 (한국생산기술연구원) ,  윤의중 (호서대학교 정보제어공학과) ,  김철호 (한국생산기술연구원) ,  이태범 (호서대학교 정보제어공학과) ,  이석태 (한국생산기술연구원)

초록
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본 연구에서는 반도체 세정 챔버 내부에서 회전 척을 사용하는 기판의 세정 공정에서 세정장치와 건조장치를 분리하지 알고 일체화하는 기술을 연구하는 한편, 초음파 세정기술을 이용하여, 세정에 사용되는 약액을 절감하는 방법도 연구하였다. UWA(Ultrasonic Water and Clean Air) system은 초음파 진동부, 초순수 공급부 그리고 clean air공급부를 모듈화 하였다. UWA system으로 공급된 초순수에 70～130kHz범위의 초음파가 더하여지고 반도체 기판 위에 분사되면 기판 위의 미세 파티클을 세정하는 효과를 갖는다. 세정 후 연속적으로 clean air를 분사하여 기판 위의 수분을 완전히 제거한다. Particle 세정 작업을 실시한 후 표면을 검사하여 정밀세정 능력을 확인하였다.

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