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차세대 반도체 세정 장비용 약액 공급 시스템 연구
Design of Chemical Supply System for New Generation Semiconductor Wet Station
원문보기
한국반도체및디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 발표 논문집, 2004 May 01, 2004년, pp.123 - 128
홍광진 (한국기술교육대학교) , 백승원 (한국기술교육대학교) , 조현찬 (한국기술교육대학교) , 김광선 (한국기술교육대학교) , 김두용 (순천향대학교) , 조중근 ((주) 한국 DNS)
Abstract
AI-Helper
Semiconductor Wet Station has a very important place in semiconductor process. It is important that to discharge chemical with fit concentration and temperature using chemical supply system for clean process. The chemical supply system which is used currently is not only difficult to make a fit mixi...
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