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NTIS 바로가기한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04, 2004 Aug. 23, 2004년, pp.1038 - 1039
Kim, Kwang-Hyun (TFT-LCD National Lab. & Dong-A Univ., Div. of Electrical & Electronics & Computer Eng.) , Song, Chung-Kun (TFT-LCD National Lab. & Dong-A Univ., Div. of Electrical & Electronics & Computer Eng.)
We developed a new photoresist which was composed of polyaniline, uv-curing agent, N-methyl-2- pyrrolidine (NMP) and N-Butyl alcohol (BuOH) as solution. The photoresist is characterized by the capability of being developed in water. We successfully patterned pentacene thin film, which was vulnerable...
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