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제안 방법
- Sputter의 초기진공도는 3.6×10-6 Torr의 압력으로 박막의 조성을 제어하기 위해 플라즈마내의 Ar 가스를 주입하여 1.0×10-2 Torr의 압력에서 10분간 예비 스퍼터링을 실시하였다.
- 박막을 제작하기 위해 TiO2 powder를 원형틀에 넣고 고압 성형한 후, 1200℃에서 소결하여 직경 5×10-2 인 m TiO2 산화물 target을 제작하였다.
- 증착시 TiO2 타겟의 RF power는 200 W를 인가하였고, WO3 타겟은 25, 50, 75, 100 W를 인가하여 1시간동안 증착하였다. 제작한 박막을 FE-SEM, XRD, XPS, AFM, UV-visible spectrometer, contact angle, photocatalyst 측정을 통해 친수성 및 광활성도, 광학적, 구조적 특성을 분석하였다.
- 0×10-2 Torr의 압력에서 10분간 예비 스퍼터링을 실시하였다. 증착시 TiO2 타겟의 RF power는 200 W를 인가하였고, WO3 타겟은 25, 50, 75, 100 W를 인가하여 1시간동안 증착하였다. 제작한 박막을 FE-SEM, XRD, XPS, AFM, UV-visible spectrometer, contact angle, photocatalyst 측정을 통해 친수성 및 광활성도, 광학적, 구조적 특성을 분석하였다.
대상 데이터
- 박막을 제작하기 위해 TiO2 powder를 원형틀에 넣고 고압 성형한 후, 1200℃에서 소결하여 직경 5×10-2 인 m TiO2 산화물 target을 제작하였다. 기판으로는 quartz glass를 사용하였고 증류수, 에탄올, 아세톤을 사용하여 기판을 세척하였다. Sputter의 초기진공도는 3.
이론/모형
- 본 연구에서는 Co-magnetron sputtering법으로 WO3/TiO2 박막을 제작하였다. 박막을 제작하기 위해 TiO2 powder를 원형틀에 넣고 고압 성형한 후, 1200℃에서 소결하여 직경 5×10-2 인 m TiO2 산화물 target을 제작하였다.
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