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NTIS 바로가기한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집, 2009 May 27, 2009년, pp.252 - 253
Gwon, Bong-Su (성균관대학교 신소재공학부) , Kim, Jin-Seong (성균관대학교 신소재공학부) , Park, Yeong-Rok (성균관대학교 신소재공학부) , An, Jeong-Ho (성균관대학교 신소재공학부) , Mun, Hak-Gi (성균관대학교 신소재공학부) , Jeong, Chang-Ryong (성균관대학교 신소재공학부) , Heo, Uk (성균관대학교 신소재공학부) , Park, Ji-Su (성균관대학교 신소재공학부) , Lee, Nae-Eung (성균관대학교 신소재공학부) , Lee, Seong-Gwon (하이닉스 반도체)
In this study, the deformation and etch characteristics of ArF and EUV photoresists were compared in a dual frequency superimposed capacitively coupled plasma (DFS-CCP) etcher systems using
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