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스퍼터링에 의한 ITO 박막의 저온 증착 및 측정
Low Temperature Deposition of ITO Film Using Magnetron Sputtering 원문보기

한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집, 2009 May 27, 2009년, pp.172 - 172  

장승현 (포항산업과학연구원 융합공정연구본부) ,  이영민 (포항산업과학연구원 융합공정연구본부) ,  양지훈 (포항산업과학연구원 융합공정연구본부) ,  정재인 (포항산업과학연구원 융합공정연구본부)

초록
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전자부품 소재의 경량화 및 연성화 경향에 따라 고분자 소재의 수요가 증가하고 있으며 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 투명 도전막으로 사용되는 ITO(Indium-tin Oxide) 피막의 저온 박막 성장에 대한 관심이 증가하고 있다. 본 연구에서는 PET 기판의 전처리 및 후처리 조건에 따라 저온에서 ITO 피막을 제조하고 전처리 및 후처리 조건이 ITO 피막의 면저항 및 투과율 그리고 결정성에 미치는 영향에 대해서 연구하였다.

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