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문제 정의
- p>반도체 산업에서의 나노구조체 형성분야는 photoresistor 및 UV노광에 의한 pattern형성 기술과 박막 etch기술로 나눌 수 있다. 이러한 기술을 통합하여 원하는 나노형상을 얻어내는 분석을 편광분석법으로 해결을 하고자 하였다. 주기적인 구조를 확인하는 방법으로는 광학현미경이 있으나, 나노 스케일로 내려가면 광학 현미경으로 구조를 분별할 수 없어 SEM(Scannig Electron Microscope)과 ATM(Atomic Force Microscopy)을 이용하게 된다.
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