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NTIS 바로가기대한설비공학회 2008년도 하계학술발표대회 논문집, 2008 June 25, 2008년, pp.725 - 730
김종준 (서울시립대학교 대학원 기계정보공학과) , 노광철 (연세대학교 기계정보공학부) , 성상철 (서울시립대학교 대학원 기계정보공학과) , 백선호 (서울시립대학교 산업대학원 기계정보공학과) , 오명도 (서울시립대학교 기계정보공학과)
In this study, we found out charged particle's deposition characteristic by experiments of
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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본 연구에서 코로나 방전기에 인가하는 전압을 6000V로 설정한 이유는? | 입자를 하전시키기 위해 코로나 방전기에 인가하는 전압은 0 V에서 6000 V로 설정하였다. 이는 7000 V이상의 전압에서는 -코로나 방전에서 스파크 현상으로 인해 하전량이 급격히 감소하였기 때문이다. | |
입자의 하전량에 따른 클린룸 벽체에서의 입자침착 특성분석 결과는 어떠한가? | (1) 자연침착 시, 1 ㎛이하의 입자에서는 확산에 의한 침착이 지배적인 반면, 그 이상의 입자에서는 중력침강에 의한 영향이 지배적인 것을 알 수 있다. (2) (+)코로나에 의한 하전보다 (-)코로나에 의해 입자의 하전량이 다소 높게 나타났으며 입경의 크기가 증가함에 따라 하전량도 증가함을 알 수 있었다. 이는 입자에 인가되는 하전량이 입자 표면적의 함수이기 때문인 것으로 판단된다. (3) 1 ㎛이하의 입자에서는 인가되는 하전량 및 입자의 크기가 입자침착속도에 주는 영향이 크지 않은 반면, 3 ㎛의 입자에서는 하전량 및 입자의 크기가 입자침착속도의 주요인자인 것을 알 수 있었다. | |
제품을 생산하는 환경에 있어서 공기청정기술의 고도화에 대한 요구가 커지는 이유는? | 전자기기의 성능이 향상되고 정밀해짐에 따라 제품을 생산하는 환경에 있어서 공기청정기술의 고도화에 대한 요구가 갈수록 커지고 있다. 이에 따라 반도체, LCD 등과 같은 전자제품들은 높은 청정도의 클린룸에서 생산되고 있으며, 제품의 수율 향상을 위해 클린룸 내부에서 발생하는 입자들의 제어를 위해 많은 연구가 진행되고 있다. |
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