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NTIS 바로가기한국재료학회 2009년도 추계학술발표대회, 2009 Nov. 05, 2009년, pp.44.2 - 44.2
Lee, Jung-Ki (Inha University) , Hwang, Seong-Jin (Inha University) , Lee, Sung-Min (KICET) , Kim, Hyung-Sun (Inha University)
Polycrystalline materials suchas yttria and alumina have been applied as a plasma resisting material for the plasma processing chamber. However, polycrystal line material may easily generate particles and the particles are sources of contamination during the plasma enhanced process. Amorphous materi...
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