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NTIS 바로가기한국세라믹학회지 = Journal of the Korean Ceramic Society, v.49 no.2, 2012년, pp.173 - 178
최관영 (인하대학교 신소재공학부) , 오윤석 (한국세라믹기술원 이천분원 엔지니어링세라믹센터) , 김성원 (한국세라믹기술원 이천분원 엔지니어링세라믹센터) , 김형순 (인하대학교 신소재공학부) , 박종훈 ((주)코미코) , 이성민 (한국세라믹기술원 이천분원 엔지니어링세라믹센터)
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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반도체 공정에서 전극의 역할은? | 반도체 공정에 사용되는 부품 중 전극, 포커스링 등은 내플라즈마성 이외에도 전기 전도성을 필요로 한다. 전극의 경우 플라즈마를 유지하는데 필요한 전력을 공급하는 역할을 하며 포커스링의 경우 웨이퍼위에서 플라즈마의 균일도를 확보하는 역할을 수행한다. 지금까지 Si이 주요 소재로 적용되었으나 불소계 환경에서의 낮은 내플라즈마성이 문제가 되어 최근에는 보다 내플라즈마성이 높은 SiC 소재가 점차로 보급되고 있는 중이다. | |
전기전도 성이 있는 복합체를 제조할 때 전도성 분산상으로 카본을 선택한 이유는? | Y2O3는 절연상이며 카본은 전도상의 역할을 하게 된다. 전기 전도성을 띄는 다양한 소재 중에서 카본을 선택한 이유는 카본이 반도체에서 흔히 허용되는 소재이기 때문이다. 대부분의 식각공정용 가스도 카본을 포함하고 있으며 카본자체를 장비용 소재로 사용하기도 한다. | |
세라믹소재가 불소계 혹은 염소계 플라즈마에 노출될 때 발생하는 문제는? | 1-3) 예를 들어 Al2O3, Y2O3 등은 내플라즈마성이 요구되는 챔버내벽 등의 소재로 널리 사용되며 Si, SiC 등은 전도성이 요구되는 전극, 포커스링 등에 사용되고 있다. 이러한 세라믹소재는 불소계 혹은 염소계 플라즈마에 노출되는데 플라즈마는 세라믹소재와의 화학적, 물리적 반응을 통하여 소재의 식각을 유발한다.4-6) 내플라즈마성이 우수한 소재로는 대표적으로 Al2O3를 들 수 있으며 최근에는 보다 내플라즈마성이 뛰어난 Y2O3가 점차로 널리 보급되고 있는 상황이다. |
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