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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10, 2009 June 18, 2009년, pp.224 - 225
이종택 (성균관대학교 정보통신공학부) , 김세영 (성균관대학교 정보통신공학부) , 신현창 (성균관대학교 정보통신공학부) , 송준태 (성균관대학교 정보통신공학부)
Aluminium nitride thin film was deposited on Au electrode and Si substrate by radio frequency sputtering system. X-ray diffraction (XRD) was utilized to identify the AlN phase, and Atomic Force Microscope (AFM) was used to obtain the images of surface morphology and roughness value of AlN thin film....
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