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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10, 2009 June 18, 2009년, pp.64 - 64
Jo, Yeong-Deuk (Kwangwoon Univ.) , Bahng, Wook (Korea Electrotechnology Research Institute (KERI)) , Kim, Sang-Cheol (Korea Electrotechnology Research Institute (KERI)) , Kim, Nam-Kyun (Korea Electrotechnology Research Institute (KERI)) , Koo, Sang-Mo (Kwangwoon Univ.)
Atomic force microscopy (AFM) fabrication of oxide patterns is an attractive technique for nanoscale patterns and related device structures, SiC exhibits good performance in high-power, high-frequency, and high-temperature conditions that is comparable to the performance of Si. The AFM fabrication o...
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