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Remote PECVD를 이용한 ZnO 박막의 공정변수와 구조연구
Study on process parameters and structural properties of ZnO film deposited by remote PECVD 원문보기

한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10, 2009 June 18, 2009년, pp.53 - 53  

정현영 (군산대학교) ,  정용호 (국가핵융합연구소) ,  추원일 (군산대학교) ,  장수욱 (국가핵융합연구소) ,  이봉주 (국가핵융합연구소) ,  김기동 (군산대학교) ,  이준영 (한국유리공업(주)) ,  권성구 (군산대학교)

초록
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박막태양전지의 투명전도막으로 응용이 기대되는 ZnO 박막을 원격 유도결합플라즈마를 이용하여 고속으로 증착활 수 있는 공정기술을 개발하기 위하여 기판온도, 가스조성 플라즈마 파워와 같은 공정변수에 대하여 실험하였다. 실험결과 증착속도는 소스유량을 고정한 경우, 온도가 증가할수록 감소하며, $H_2O$ 유랑과 압력이 증가할수록 증가하다가 포화되는 경향을 나타내었다. 기판온도 $150\;^{\circ}C$와 플라즈마 출력 200 W의 조건에서 ZnO의 증착속도는 500 nm/min 이상의 높은 증착속도를 나타내었으며, 전기적 광학적 특성 또한 우수한 것으로 나타났다. 또한 ZnO 박막의 물성은 구조에 민감하게 의존하였으며, 이러한 구조는 공정조건에 의하여 제어가능 함을 알 수 있었다. 자세한 연구결과는 학회에서 발표할 예정이다.

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