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RF magnetron sputtering 방법으로 제작한 NiCr 박막의 전기적특성
Electrical properties of NiCr thin films deposited by rf magnetron sputtering 원문보기

한국전기전자재료학회 2002년도 추계학술대회 논문집 Vol.15, 2002 Nov. 07, 2002년, pp.411 - 415  

김대연 (울산대학교 첨단소재공학부) ,  권정호 (울산대학교 첨단소재공학부) ,  정연학 (울산대학교 첨단소재공학부) ,  이재신 (울산대학교 첨단소재공학부)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Precision resistors were prepared by controlling the concentration of Ni and Cr deposited on cylindrical alumina substrates (diameter: 1.7mm, length: 5.5mm). Deposited films were analyzed with FESEM, AES, and AFM. As the amount of Cr in the film increases, the TCR was shifted to negative direction....

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문제 정의

  • 본 연구에서는 rf magnetron sputtering 법으로 alumina rod 위에 NiCr 박막을 증착하여 고정밀저항기를 얻고자 하였다. NiCr 합금 박막을 선택한이유는 저항기의 설계가 용이하고, 주파수 특성이뛰어나고 잡음면에서 우수하기 때문이다.
  • 본 연구에서는 고정밀 박막 저항체를 RF magnetron sputtering 법으로 제조한 결과 다음과 같은 결과를 얻을 수 있었다. NiCr 합금 박막은 미세결정성을 나타내었으며, 스퍼터 조건에 따라 Ni/Ci.
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