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열처리조건과 기판이 $ZnGa_O_4:Mn$ 박막 형광체의 발광특성에 미치는 영향
Effects of heat treatment and substrates on luminescent characteristics of $ZnGa_O_4:Mn$ thin film phosphor 원문보기

한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자분야, 2004 May 06, 2004년, pp.181 - 184  

정승묵 (한국전자통신연구원 유기EL소자팀) ,  김영진 (경기대학교 재료공학과)

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

The green emitting phosphor, $ZnGa_2O_4:Mn$ thin film with spinel structure were deposited by rf magnetron sputtering. Thin film phosphors were heat-treated in nitrogen, vacuum and air atmosphere, respectively. The effects of the substrates, heat-treatment conditions and the sputtering pa...

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제안 방법

  • ZnGazCMMn 형광체 박막을 rf 마그네트론 스퍼터링으로 ZnO:Ga/glass, ZnO/ITO/glass, ZnO:Al/glass 그리고 ITO/glass에 증착변수에 따라 증착한 박막의 특성을 관찰하였고, 열처리 후에 발광특성을 관찰하였다. 열처리 시 산소와의 접촉이 일어나지 않을수록 발광특성의 향상을 가져온다는 것을 관찰할 수 있었으며, 열처리 후 Ga/Zn의 비가 증가하였다.
  • 기계적 안정성, 긴 수명, 높은 콘트라스트, 해상도가 뛰어나다고 알려져 있다.[4] 본 실험에서는 ZnGa2O4:Mn 박막을 제조하고 열처리 전 . 후와 기판에 따른 발광특성을 관찰하였다.
  • A1 이 첨가된 경우에는 (100)면으로 성장되었다. 결정면의 성장이 다른 기판을 이용하여 박막형광체를 제작하였다. 증착 된 박막형광체를 질소분위기에서 열처리한 결과를 Fig.
  • 細% 이상의 ZnO, Ga2O3> MnO를 사용하여 혼합, 프레스, 소결하였다. 이렇게 합성된 타게트를 이용하여 박막형광체를 제작하였다. 스퍼터링조건은 표 1에 나타내었다.
  • 기판을 사용하였다. 증착된 박막은 열처리를 유리기판이 견딜 수 있는 최고온도인 70013 에서 질소, 진공, 대기분위기에서 각각 열처리를 하였다. 박막의 결정성은 X-ray diffractometer(PW-1840, Philips Co.
  • [4] 본 실험에서는 ZnGa2O4:Mn 박막을 제조하고 열처리 전 . 후와 기판에 따른 발광특성을 관찰하였다.

대상 데이터

  • Al이 각각 첨가된 ZnO/glass와 Zn。가 증착된 ITO/glass 기판을 사용하였다. 증착된 박막은 열처리를 유리기판이 견딜 수 있는 최고온도인 70013 에서 질소, 진공, 대기분위기에서 각각 열처리를 하였다.
  • 1에 ZnGa2O»:Mn 박막을 제작시 사용된 기판의 XRD 결과를 나타내었다. 기판온도는 3oor, 산소분압비 50%, rf power 100W에서 제작하였다. ITO/glass 의 경우 비정질상태가 관찰되었고 ZnO/ITO/glass기판과 Ga이 첨가된 ZnO/glass 기판은 (002)면으로의 성장이 나타났다.
  • 006 mole%) 박막 형광체를 rf마그네트론 스퍼터 링 법으로 제작하였다. 타게트는 순도 99.細% 이상의 ZnO, Ga2O3> MnO를 사용하여 혼합, 프레스, 소결하였다. 이렇게 합성된 타게트를 이용하여 박막형광체를 제작하였다.

이론/모형

  • ZnGa204:Mn(0.006 mole%) 박막 형광체를 rf마그네트론 스퍼터 링 법으로 제작하였다. 타게트는 순도 99.
  • 증착된 박막은 열처리를 유리기판이 견딜 수 있는 최고온도인 70013 에서 질소, 진공, 대기분위기에서 각각 열처리를 하였다. 박막의 결정성은 X-ray diffractometer(PW-1840, Philips Co.)를 사용하여 관찰하였고 박막의 표면분석, 원자비 그리고 두께측정은 energy dispersive spectrometer(Sigma, Kevex instrument Go.)을 이용하였다. 형광체박막의 발광특성은 254nm 의 필터를 이용한 photoluminescence(Dasa 5000, PSI Co.
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