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문제 정의
- 본 연구에서는 반응성 이온 식각을 이용한 무작위 플라즈마 식각 기술을 이용함으로써 다양한 조건 변화를 통해 기판 표면에 조직화 구조를 구현하고 표면 거칠기와 광학적 특성을 관찰하였다. 기판은 대면적 공정이 가능하며 저가인 보론화 유리 소재를 사용하였으며 기판에 직접 표면처리 함으로써 superstrate 구조를 갖는 태양전지에서 빛이 최초 입사될 때 일어날 수 있는 광학적 손실을 감소시키고자 하였다.
- 그중 화학용액으로 처리하는 방법은 단결정 기판에서는 우수한 균일도를 얻을 수 있지만 비정질의 기판에는 균일한 형상을 얻을 수 없으며, 기계적 식각 방법도 공정 후 표면결함이 발생하는 문제점을 안고 있다. 따라서 본 연구에서는 박막 태양전지 응용을 위한 유리 기판에 대한 플라즈마 표면처리를 통한 조직화 공정에 대해서 연구하였다.
- 플라즈마 조건에 따라서 각 변수가 표면 거칠기와 광학적 특성에 미치는 영향을 알 수 있었다. Ar 가스를 이용한 물리적 식각 반응에서는 표면 거칠기 및 광학적 특성이 RF power 변화에 크게 의존하는 경향을 보였으며, CF4 가스 기반의 화학적 식각 반응에서는 가스 조성 변화에 민감하게 반응하였다.
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