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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집, 2007 Nov. 01, 2007년, pp.431 - 431
Kim, Young-Hwan (Yonsei Univ.) , Kim, Byoung-Yong (Yonsei Univ.) , Oh, Byoung-Yun (Yonsei Univ.) , Kang, Dong-Hun (Yonsei Univ.) , Park, Hong-Gyu (Yonsei Univ.) , Lee, Kang-Min (Yonsei Univ.) , Seo, Dae-Shik (Yonsei Univ.)
In this paper, the LC alignment characteristics of the NDLC thin film deposited by PECVD and sputtering were reported respectively. The NDLC thin film deposited using sputter showed uniform LC alignment at the 1200 eV of the ion beam intensity and pretilt angle was about
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