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NTIS 바로가기한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집, 2014 Feb. 10, 2014년, pp.273.2 - 273.2
Yun, Yeong-Jun (한국세라믹기술원) , Jo, Seong-Hwan (한국세라믹기술원) , Kim, Chang-Yeol (한국세라믹기술원) , Nam, Sang-Hun ((주)인포비온) , Lee, Hak-Min ((주)인포비온) , O, Jong-Seok ((주)인포비온) , Kim, Yong-Hwan ((주)인포비온)
Sputtering process has been widely used in Si-based semiconductor industry and it is also an ideal method to deposit transparent oxide materials for thin-film transistors (TFTs). The oxide films grown at low temperature by conventional RF sputtering process are typically amorphous state with low den...
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