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CF4/O2 Gas를 사용한 디스플레이용 ICP 장비의 플라즈마 시뮬레이션 원문보기

한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집, 2014 Feb. 10, 2014년, pp.267 - 267  

이영준 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  오선근 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  김병준 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  전재홍 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  서종현 (한국항공대학교 항공재료공학과) ,  최희환 (한국항공대학교 항공전자공학과)

초록
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디스플레이용 유도결합 플라즈마 시스템에서 CF4/O2 혼합가스를 이용하여 SiO2 식각공정에 대한 연구를 하기 위해 플라즈마 변수들에 대한 공간 분포를 살펴 보았다. 장비의 규격은 8세대 급, 안테나는 4turn을 기본으로 하며 동일한 크기의 안테나 9개를 배치하였다. 시뮬레이션 결과에 따른 플라즈마 주요변수들(전자밀도, 전자온도, 전위차)의 공간분포와 CF3+, CF2+, CF+, O2+, O-, F+, F- 이온들에 대한 공간분포를 확인 할 수 있었다.

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