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디스플레이 공정용 ICP 장비에서 안테나 구조 변화에 따른 플라즈마 변수 비교
Effects of antenna configurations in an inductively coupled plasma for display device process 원문보기

한국표면공학회 2013년도 춘계학술대회 논문집, 2013 May 30, 2013년, pp.173 - 173  

이영준 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  오선근 (한국항공대학교 항공전자공학과) ,  최희환 (한국항공대학교 항공전자 및 정보통신공학부)

초록
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디스플레이용 ICP 장비에서 Ar 플라즈마를 사용하여 플라즈마 시뮬레이션을 진행하였다. 안테나 코일의 회전수에 따른 플라즈마 변수들을 비교하였다. 1-turn과 4-turn의 플라즈마 밀도, 온도, 전위차의 공간분포들을 비교한 결과 4-turn이 균일도 측면에서 유리함을 확인 할 수 있었다.

AI 본문요약
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제안 방법

  • ICP 장비의 안테나 코일 회전수를 1회, 4회로 구성하여 각각을 Ar 가스에 대하여 시뮬레이션을 진행하였다. 유리 기판 1cm 위에서 플라즈마의 전자 밀도, 이온 선속 그리고 전자온도의 균일도를 비교, 분석하였다.
  • 안테나 구조는 ICP 장비의 성능을 결정하는데 있어 매우 중요한 요소이다. 공정 및 성능 최적화를 위해서 장비구성에 따른 플라즈마 특성을 측정하기 위해 안테나 구조에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 진행하였다.
  • p>디스플레이용 ICP 장비에서 Ar 플라즈마를 사용하여 플라즈마 시뮬레이션을 진행하였다. 안테나 코일의 회전수에 따른 플라즈마 변수들을 비교하였다.
  • p>디스플레이용 ICP 장비에서 Ar 플라즈마를 사용하여 플라즈마 시뮬레이션을 진행하였다. 안테나 코일의 회전수에 따른 플라즈마 변수들을 비교하였다. 1-turn과 4-turn의 플라즈마 밀도, 온도, 전위차의 공간분포들을 비교한 결과 4-turn이 균일도 측면에서 유리함을 확인 할 수 있었다.
  • ICP 장비의 안테나 코일 회전수를 1회, 4회로 구성하여 각각을 Ar 가스에 대하여 시뮬레이션을 진행하였다. 유리 기판 1cm 위에서 플라즈마의 전자 밀도, 이온 선속 그리고 전자온도의 균일도를 비교, 분석하였다.
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