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TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막의 고온산화
High Temperature Oxidation of TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN Thin Films 원문보기

한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집, 2014 Nov. 20, 2014년, pp.192 - 192  

김민정 (성균관대학교 신소재공학과) ,  박순용 (성균관대학교 신소재공학과) ,  이동복 (성균관대학교 신소재공학과)

초록
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TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막을 제조한 후, 이 들의 고온산화 특성을 SEM, EPMA, TGA, TEM, AES 등을 이용하여 조사하고, 산화기구를 제안하였다. 산화속도, 생성되는 산화물의 종류와 분포는 박막의 조성, 산화온도, 산화시간에 따라 변하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 널리 연구되고 있는 코팅재는 TiN, TiC, TiN과 TiC의 고용체인 Ti(C,N) 및 TiN의 Ti에 Al을 일부 치환한 TiAlN 등으로서, 일반적으로 질화물 코팅은 금속재료보다 고융점, 고경도의 특성을 가지고 있어 특히 내마모성, 윤활성 등이 요구되어지는 재료에 적용되고 있으며 고융점 재료로서 내열재료로서의 적용도 시도되고 있다. 따라서, 본 연구에서는 다양한 TiN계 박막의 고온산화특성을 비교 평가하였다.
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