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450mm 웨이퍼 공정을 위한 이중 주파수 유도결합 플라즈마 소스의 개발 및 특성 연구 원문보기

한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집, 2012 May 31, 2012년, pp.334 - 334  

강승현 (성균관대학교 신소재공학부) ,  김태형 (성균관대학교 신소재공학부) ,  정호범 (성균관대학교 신소재공학부) ,  배정운 (성균관대학교 신소재공학부) ,  염근영 (성균관대학교 신소재공학부)

초록
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다음 세대 웨이퍼 공정인 450mm 웨이퍼 공정을 위한 이중 주파수 유도결합 플라즈마 소스를 이용하여 각각의 안테나에 파워를 인가하고, 이 때 방전되는 플라즈마의 특성을 Langmuir probe를 통하여 확인할 수 있었다. 또한 인가되는 파워를 조절하여 플라즈마 내의 전자에너지를 조절할 수 있다는 가능성을 확인할 수 있었다.

AI 본문요약
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제안 방법

  • 이 연구에서 우리는 2개의 다른 주파수를 가진 spiral 형태의 안테나를 사용하였다. 안테나의 안쪽과 바깥쪽에는 각각 2MHz와 13.56MHz를 인가하였고, 이때 방전된 플라즈마의 특성분석을 위해 Langmuir probe를 사용하였다. 플라즈마 방전 시 공정 압력은 10mTorr를 유지 하였고, 2MHz의 경우에는 0 ~ 800W, 13.

대상 데이터

  • 이 연구에서 우리는 2개의 다른 주파수를 가진 spiral 형태의 안테나를 사용하였다. 안테나의 안쪽과 바깥쪽에는 각각 2MHz와 13.
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