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Si 분말상의 무전해 Ni-B 도금
Electroless Ni-B Plating on Si powder 원문보기

한국표면공학회 2015년도 추계학술대회 논문집, 2015 Nov. 26, 2015년, pp.349 - 349  

고병만 (경북대학교 신소재공학부 금속신소재공학전공) ,  손인준 (경북대학교 신소재공학부 금속신소재공학전공) ,  백성호 (대구경북과학기술원 에너지연구부)

초록
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최근 고용량의 리튬이온전지 개발이 절실하다. 흑연의 용량을 뛰어넘는 고용량 음극재료로서 흑연의 10배가 넘는 이론용량을 가지는 실리콘이 차세대 음극재료로 주목받고 있다. 그러나 실리콘은 큰 부피팽창과 낮은 전기전도도와 같은 문제점을 안고 있으므로 이를 해결하는 것이 시급하다. 따라서 본 연구에서는 이러한 실리콘 음극재료의 전기전도도 향상을 위해 무전해 Ni-B 도금을 이용하여 실리콘 파우더 표면에 Ni 금속을 부분적으로 형성시켰다.

AI 본문요약
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제안 방법

  • 전처리는 Si산화막을 제거 하는 전통적인 방식인 RCA process를 채택하였다. 우선 SC-1(NH4OH : H2O2 : DI water = 1 : 1 : 5), SC-2(HCl : H2O2 : DI water = 1: 1: 5) 차례대로 80℃ 10분 간 침지하였고 그 다음 DHF(5% HF)에 30초간 침지하였다. 전처리후 무전해 Ni-B 도금을 하였다.

대상 데이터

  • 전처리후 무전해 Ni-B 도금을 하였다. Pd 촉매제(PdCl2 0.05g/L, HCl 5ml/L, HF 5ml/L) 1분동안 침지하고 무전해 NI-B 도금액(Young In Plachm Co. Ltd., EN8000NB)에서 도금을 실시하였다.
  • Si에 전기전도성 향상을 위해 Si 분말에 무전해 Ni-B 도금을 실시하였다. 도금이 끝난 분말에 Gun- type XRF(XMET-5100)를 통해 Ni이 전착되었음을 알수있었다.
  • 본 연구에서는 흑연을 대체할 고용량 음극재료인 Si에 무전해 Ni 도금을 하였다. Si은 -60 mesh 분말을 사용하였다. 전처리는 Si산화막을 제거 하는 전통적인 방식인 RCA process를 채택하였다.
  • 본 연구에서는 흑연을 대체할 고용량 음극재료인 Si에 무전해 Ni 도금을 하였다. Si은 -60 mesh 분말을 사용하였다.

이론/모형

  • Si은 -60 mesh 분말을 사용하였다. 전처리는 Si산화막을 제거 하는 전통적인 방식인 RCA process를 채택하였다. 우선 SC-1(NH4OH : H2O2 : DI water = 1 : 1 : 5), SC-2(HCl : H2O2 : DI water = 1: 1: 5) 차례대로 80℃ 10분 간 침지하였고 그 다음 DHF(5% HF)에 30초간 침지하였다.
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