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마그네트론 스퍼터링에 의해 제조된 Cr1-xAlxN 박막의 Al 함량과 열처리에 따른 온도저항계수
Effect of Al content and heat treatment on the temperature coefficient of resistance of Cr1-xAlxN film deposited by magnetron-sputtering 원문보기

한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집, 2012 Nov. 08, 2012년, pp.187 - 188  

문선철 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학과) ,  김상호 (한국기술교육대학교 에너지.신소재.화학공학과)

초록
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magnetron-sputtering법을 사용하여 $Cr_{1-x}Al_xN$ 박막을 증착함에 있어 Al 함량의 변화를 주었다. 그 후 열처리를 통하여 thermal inkjet 방식 print head의 heater resistor 소재로서의 특성 향상을 도모하였다. Al의 함량이 증가할수록 결정구조는 NaCl에서 wurtzite HCP 구조로 변화하였으며 전기적 특성 또한 다르게 나타났다. 비열처리 시 Al 함량이 클수록 결정성은 떨어진다는 것을 확인하였고, 열처리 시 Al 함량이 적을 수 록 더 안정한 온도 저항 계수를 나타내는 것을 확인하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 또한 60~70% 사이에는 부분적인 혼합구조를 띄기도 한다. 본 실험은 이러한 Al 함량을 조절함으로서 서로 다른 구조가 갖는 전기적인 특성 및 열처리 따른 영향을 확인해 보았다.
  • 최근 이를 대체하기 위한 소재로 높은 기계적 강도와 우수한 내산화성을 가지고 있는 Cr1-xAlxN 박막이 주목받고 있다. 본 연구에서는 Cr1-xAlxN 박막이 heater resistor로써 Low TCR의 우수한 성능을 가질 수 있는 Al 조성비 및 후 처리과정을 규명하고자 한다.
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