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Cu pyrophosphate bath에서 전기도금된 Cu 박막에 미치는 전류밀도 및 도금온도의 영향
Effects of Current Density and Solution Temperature on Electrodeposited Cu Thin Film in Cu Pyrophosphate Bath 원문보기

한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집, 2012 Nov. 08, 2012년, pp.136 - 136  

심철용 (한밭대학교 신소재공학과) ,  신동율 ((주)심텍) ,  구본급 (한밭대학교 신소재공학과) ,  박덕용 (한밭대학교 신소재공학과)

초록
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Cu 박막이 pyrophosphate baths로부터 전기도금공정에 의해 제조되었으며, 전류밀도 및 도금온도가 Cu 박막의 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 전류 밀도 및 도금온도 모두 전류효율, 잔류응력, 표면형상, 미세조직에 상당한 영향을 미쳤음을 알 수 있었다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구에서는 pyrophosphate baths로부터 전기도금 공정을 이용해 Cu 박막을 제조하기 위해 본 연구에 사용한 도금용액의 조성 및 도금조건을 Table 1 에 나타내었다.
  • FPCB의 원재료인 FCCL(flexible copper clad laminate)은 폴리이미드(polyimide)에 시드 층(seed layer)을 스퍼터링으로 형성시킨 후, 전기도금으로 Cu 층을 형성시키는 방법이 중요한 공정 중의 하나로 사용되고 있다. 본 연구에서는 pyrophosphate baths로부터 전기도금에 의해 Cu 박막이 제조되었으며, 전류 밀도 및 도금온도가 Cu 박막의 표면형상, 전류효율, 미세조직, 잔류응력에 미치는 영향을 조사하였다.
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