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NTIS 바로가기국가/구분 | 일본특허청(JP) 공개특허 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0167745 (2007-06-26) |
공개번호 | JP-0010018 (2009-01-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a decrease in the number of sheets of wafer arranged in a treatment chamber, maintaining a gap between electrodes for generating plasma to a stable electric discharge space. SOLUTION: Vertical substrate treating equipment comprises a reaction chamber 1 for treating a
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