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NTIS 바로가기국가/구분 | 일본특허청(JP) 공개특허 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0280006 (2009-12-10) |
공개번호 | JP-0122197 (2011-06-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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(PURPOSE)To provide a method of producing highly refined metal indium from a metal indium-containing alloy with high yield over a long period. ! In the method of producing metal indium by using the metal indium-containing alloy as an anode 1, metal indium as a cathode 2 and indium chloride-zinc chlo
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