초록 ▼

[목적]후막 저항기 조성물용 결합제 성분으로 유용한 붕규산염 유리조성물에 관한 것으로, 산화주석 피로클로르계 물질과 유리조성물의 미세분할 입자 혼합물의 유기매체내 분산물로 이루어지는 스크린 인쇄성 후막 저항기 조성물을 제공한다.[구성]유리프리트와 Sn2+(1,75) Ta(1,75) Sn4+(0.25) O(6.625)의 탄탈-주석 피로클로르 조성물을 분산매체로 물을 사용하여 혼합하고, 혼합물을 건조시킨다. 이를 알루미나 도가니에 넣은 후, 비산화 대기를 함유하는 용광로에서 섭씨 872도+-10도에서 24시간동안 가열하여 피로클로르를

[목적]후막 저항기 조성물용 결합제 성분으로 유용한 붕규산염 유리조성물에 관한 것으로, 산화주석 피로클로르계 물질과 유리조성물의 미세분할 입자 혼합물의 유기매체내 분산물로 이루어지는 스크린 인쇄성 후막 저항기 조성물을 제공한다.[구성]유리프리트와 Sn2+(1,75) Ta(1,75) Sn4+(0.25) O(6.625)의 탄탈-주석 피로클로르 조성물을 분산매체로 물을 사용하여 혼합하고, 혼합물을 건조시킨다. 이를 알루미나 도가니에 넣은 후, 비산화 대기를 함유하는 용광로에서 섭씨 872도+-10도에서 24시간동안 가열하여 피로클로르를 제조하고, 이를 이용하여 후막 저항기 페이스트를 만든다.

대표청구항

Bi,Cd 및 Pb가 실제적으로 결여되어 있고 다음과같은 몰퍼센트로 구성되며 : A. B2O3 25-50%, SiO2 15-40%와 SnO2 0.1-5% 및 그의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 물질 50-85%, B.BaO 10-30%, MgO 0-12%, NiO 1-10% 및 그의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 물질 50-15%; 보다 자세하게는 (1) B2O3와 SiO2의 몰비가 B2O3/SiO20.8이고, (2) ∑(B2O3+SiO2)50임을 특징으로 하는 유리조성물.

Bi,Cd 및 Pb가 실제적으로 결여되어 있고 다음과같은 몰퍼센트로 구성되며 : A. B2O3 25-50%, SiO2 15-40%와 SnO2 0.1-5% 및 그의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 물질 50-85%, B.BaO 10-30%, MgO 0-12%, NiO 1-10% 및 그의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 물질 50-15%; 보다 자세하게는 (1) B2O3와 SiO2의 몰비가 B2O3/SiO20.8이고, (2) ∑(B2O3+SiO2)50임을 특징으로 하는 유리조성물.