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연합인증

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불필요한 물질의 플라즈마 제거방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B44C-001/22
출원번호 10-1990-0011230 (1990-07-24)
공개번호 10-1991-0006044 (1991-04-27)
DOI http://doi.org/10.8080/1019900011230
발명자 / 주소
  • 제임스하워드내프 / 미국아리조나*****길버트이스트산레모***
  • 죠지프란시스카니 / 미국아리조나*****템프이스트팜크로프트****
  • 프란시스죠셉카니 / 미국아리조나*****템프사우스매플애비뉴****
출원인 / 주소
  • 모토로라 인코포레이티드 / 미국, 일리노이 *****, 샤움버그, 이스트 앨공퀸 로드 ****
대리인 / 주소
  • 이병호 (LEE, Byong Ho)
  • 서울 종로구 수송동 ** 번지코리안리빌딩*층(법무법인중앙)
심사청구여부 있음 (1995-02-20)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

[구성]상부에 제거될 물질을 포함하는 표면을 제공하는 단계와, 제거될 물질을 포함하는 표면을 플라즈마 반응로에 위치시키는 단계와,반응성 할로겐 물질을 포함하는 가스 프라즈마에 표면을 노출시키는 단계를 포함하는것을 특징으로 하는 표면으로 부터의 물질 제거방법.

대표청구항

상부에 제거될 물질을 포함하는 포면을 제공하는 단계와, 제거될 물질을 포함하는 표면을 플라즈마 반응로에 위치시키는 단계와, 반응성 할로겐 물질을 포함하는 가스 프라즈마에 표면을 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면으로 부터의 물질 제거방법.

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