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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1990-0011230 (1990-07-24) |
공개번호 | 10-1991-0006044 (1991-04-27) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019900011230 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1995-02-20) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
[구성]상부에 제거될 물질을 포함하는 표면을 제공하는 단계와, 제거될 물질을 포함하는 표면을 플라즈마 반응로에 위치시키는 단계와,반응성 할로겐 물질을 포함하는 가스 프라즈마에 표면을 노출시키는 단계를 포함하는것을 특징으로 하는 표면으로 부터의 물질 제거방법.
상부에 제거될 물질을 포함하는 포면을 제공하는 단계와, 제거될 물질을 포함하는 표면을 플라즈마 반응로에 위치시키는 단계와, 반응성 할로겐 물질을 포함하는 가스 프라즈마에 표면을 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면으로 부터의 물질 제거방법.
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