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[한국특허] 폴리에스터의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C08G-063/78
  • C08G-063/68
출원번호 10-1994-0015246 (1994-06-29)
공개번호 10-1996-0000959 (1996-01-25)
DOI http://doi.org/10.8080/1019940015246
발명자 / 주소
  • 임진영 / 경기도고양시신도읍동산리**-**
  • 이해운 / 대구직할시달서구본리동현대백조아파트***-***
  • 임영 / 경상북도구미시공단동***
출원인 / 주소
  • 주식회사 코오롱 / 경기 과천시 별양동 *-**
대리인 / 주소
  • 노완구 (RO, Wan Goo)
  • 서울 서초구 서초동 ****-** 썬라이즈빌딩 *층(미로텍특허법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 섬유 표면에 미세한 요철을 부여하여 기존의 일반섬유의 단점인 광택을 개선하고 또한 촉감을 향상시키는 심색성 폴리에터 원사 제조에 사용되는 실리카 함유 폴리에스터, 특히 실리카 임자 분산성이 우수한 폴리에스테르의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항

테레프탈산과 에틸렌글리콜을 연속적으로 에스터 교환반응을 시켜 에스터화 반응율이 94~98%이고, 반응온도가 230~240℃일때 실리카 입자를 투입, 교반시킴을 특징으로 하는 폴리에스터의 제조방법.제1항에 있어서, 실리카의 평균입경이 5~150nm이고, 입자 표준편차가 30nm 미만, 밀도가 2.3 미만인 것을 특징으로 하는 폴리에스터의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.

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