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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-1995-0029860 (1995-09-13) |
공개번호 | 10-1997-0015780 (1997-04-28) |
등록번호 | 10-0160724-0000 (1998-08-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950029860 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1995-09-13) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 금형이나 금형가공용 공구 등의 기재(基材)에 고경도나 내마모성 등과 같은 특별한 기능을 부여하기 위하여 코팅막을 형성하는 건식코팅법의 하나인 물리증착(PVD)법에 있어서 이온플레이팅에 사용되는 금속타겟에 관하여 개시한 것이다.본 발명에 의한 코팅막 증착용 금속타겟의 특징에 따르면, 아아크 발생면과 냉각수 접촉면의 테두리부에 턱부를 형성시킨 구조로 개선함으로써, 아아크 발생영역의 안정화와 동시에 냉각효율을 높여 균일한 이온증착에 의한 코팅막을 얻을 수 있는 효과를 가지도록 한 것이다.
상부의 외경이보다 큰 상하 2단형의 원기둥형으로 이루어지며, 상부 원기둥의 상면은 아아크 발생면을 이루고, 하부 원기둥의 하면은 냉각수가 흐르는 쳄버의 일측면에 접촉하도록 형성된 코팅막 증착용 금속타겟에 있어서, 상기 상부 원기둥의 상면 테두리부에는 소정 높이 돌출된 턱부가 형성되어 이루어진 점을 특징으로 하는 코팅막 증착용 금속타겟.제1항에 있어서, 하부 원기둥의 하면 테두리에는 소정 높이 돌출된 턱부가 형성되어 이루어진 점을 특징으로 하는 코팅막 증착용 금속타겟.제1항에 있어서, 상기 하부 원기둥의 상면 테두리부에 돌출형성된 턱
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