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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1995-0057203 (1995-12-26) |
공개번호 | 10-1997-0052768 (1997-07-29) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019950057203 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 저온식각장치에 관한 것으로, 시간 변조 RF제너레이터를 사용하여 시간이 경과함에 따라서 고주파를 ON/OFF를 조절함으로써 플라즈마 발생을 제어하여 식각되는 기판의 온도가 지나치게 상승하는 것을 방지한다. 즉, 기판의 온도가 지나치게 상승하는 것을 방지한다. 즉, 기판의 온도가 저온 상태를 유지하도록 하으로써 식각 속도를 향상시키고 선택성과 이방성을 개선할 뿐 아니라 열에 의한 웨이퍼 손상을 방지하는 효과를 나타내는 저온 식각 장치를 제공한다.
공통 접지(common ground)에 접속된 플라즈마 식각챔버의 상부 전극; 상기 플라즈마 식각 챔버의 하부 전극; 상기 하부 전극에 연결된 저온용 하부 전극 블록; 상기 저온용 하부 전극 블록에 연결되어 냉매를 공급하는 냉각 장치; 및 상기 저온용 하부 전극에 연결되어 있고 상기 플라즈마 식각 챔버에 전압을 공급하기 위한 직류 전압원(DC Visa Source)으로 구성되어 있는 저온 식각 장치에 있어서, 상기 직류 전압원이 시간에 따라 고주파 전원을 ON/OFF시킴으로써 기판의 온도가 저온상태로 유지되도록 조절하는 시간 변조
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